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陽極氧化設備如何去除處理后氧化層

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  • 發布時間: 2022-05-24

陽極氧化設備廠家帶您了解陽極氧化設備如何去除處理后的氧化層:
噴砂處理:鈦鑄件噴砂處理一般選用白剛玉。噴砂處理的壓力小于非貴金屬,一般控制0.45MPa以下。因為當注射壓力過高時,砂粒沖擊鈦表面產生強烈火花,溫度升高會與鈦表面發生反應,形成二次污染,影響表面質量。時間為15~30秒,只去除粘砂、燒結層和鑄件表面的一部分和一部分 陽極氧化設備只是一層而已。其余的表面反應層結構應通過化學酸洗快速去除。酸洗:酸洗能快速、徹底地去除表面反應層,表面不會被其他元素污染。Hf-hcl和Hf-hno3酸洗液可用于鈦的酸洗,但Hf-hcl酸洗液吸氫較多,Hf-hno3酸洗液吸氫較少。通過控制硝酸的濃度來降低氫氣的吸收,并對表面進行拋光。HF的濃度一般3%~5%左右,HNO3的濃度一般15%~30%左右。
化學拋光:金屬化學介質中進行化學拋光 陽極氧化設備還原反應達到平整和拋光的目的。該方法的優點是化學拋光與金屬硬度無關,拋光面積與結構形狀無關。所有與拋光液接觸的零件都經過拋光,不需要特殊的復雜設備。操作簡單,更適用于結構復雜的鈦義齒托槽的拋光。但化學拋光的工藝參數難以控制,要求不影響義齒精度的前提下,對義齒進行良好的拋光。HF是一種還原劑,能溶解鈦,起到整平作用。HF的濃度為10%,HNO3起到整平作用 陽極氧化設備為防止鈦過度溶解和吸氫。

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